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簡要描述：Eksma FEMTOLINE偏振平板旋轉(zhuǎn)器與波片相比，旋轉(zhuǎn)器具有固有優(yōu)勢，與繞其自身光軸的旋轉(zhuǎn)無關(guān)。它不需要調(diào)整，只需垂直于入射輻射安裝即可。偏振平面旋轉(zhuǎn)器通常用于特定波長。它僅略微取決于環(huán)境溫度。
產(chǎn)品品牌：Eksma廠商性質(zhì)：代理商更新時(shí)間：2021-03-17訪 問 量：732相關(guān)文章
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| 品牌 | Eksma | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 組件類別 | 光學(xué)元件 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合 |
Eksma FEMTOLINE偏振平板旋轉(zhuǎn)器
Eksma FEMTOLINE偏振平板旋轉(zhuǎn)器
旨在使用由晶體石英制成的圓形雙折射效應(yīng)將光束偏振平面嚴(yán)格旋轉(zhuǎn)到合適的角度。
產(chǎn)品介紹
Ø旨在通過圓形雙折射效應(yīng)將光束偏振平面嚴(yán)格旋轉(zhuǎn)到合適的角度
Ø由晶體石英制成
與波片相比，旋轉(zhuǎn)器具有固有優(yōu)勢，與繞其自身光軸的旋轉(zhuǎn)無關(guān)。它不需要調(diào)整，只需垂直于入射輻射安裝即可。偏振平面旋轉(zhuǎn)器通常用于特定波長。它僅略微取決于環(huán)境溫度。
產(chǎn)品型號
型號 | 中心波長 | 偏振平面的旋轉(zhuǎn)角度 | AR鍍膜范圍 | |
470-4044 | 400 nm | 45° | 380-420 nm | |
470-4049 | 400 nm | 90° | 380-420 nm | |
470-4254 | 257 nm | 45° | 250-265 nm | |
470-4259 | 257 nm | 90° | 250-265 nm | |
470-4264 | 266 nm | 45° | 257-275 nm | |
470-4269 | 266 nm | 90° | 257-275 nm | |
470-4344 | 343 nm | 45° | 333-353 nm | |
470-4349 | 343 nm | 90° | 333-353 nm | |
470-4514 | 515 nm | 45° | 500-530 nm | |
470-4519 | 515 nm | 90° | 500-530 nm | |
470-4784 | 780 nm | 45° | 740-820 nm | |
470-4789 | 780 nm | 90° | 740-820 nm | |
470-4804 | 800 nm | 45° | 760-840 nm | |
470-4809 | 800 nm | 90° | 760-840 nm | |
470-4904 | 1030 nm | 45° | 1000-1060 nm | |
470-4909 | 1030 nm | 90° | 1000-1060 nm | |
材料 | 單晶石英 | |||
光軸 | 垂直于旋轉(zhuǎn)器的面S1，S2 | |||
通光孔徑 | Ø17mm | |||
環(huán)安裝外徑，D | 25.4mm+ 0.0 / -0.2mm | |||
表面質(zhì)量 | 20-10表面光潔度（MIL-PRF-13830B） | |||
波前畸變 | λ/ 10 @ 633nm | |||
平行性 | <10弧秒 | |||
增透膜 | R <0.5％ | |||
激光損傷閾值 | 100 mJ / cm2，50 fsec脈沖，典型800 nm | |||
EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)，美學(xué)，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機(jī)械，帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商，它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項(xiàng)業(yè)務(wù)，其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
我們的激光組件工作在從UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光譜范圍內(nèi)，并在太赫茲（1-5 THz）范圍內(nèi)工作，可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)和美學(xué)領(lǐng)域的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用，軍事和航空航天市場。
EKSMA光學(xué)拋光設(shè)備專門從事由BK7，UVFS，Infrasil，Suprasil，CaF2以及DKDP，KDP，LBO，BBO，ZnGeP2晶體制成的平面光學(xué)器件的加工和終拋光，而大功率激光應(yīng)用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設(shè)備，球面，軸錐和非球面鏡片CNC制造設(shè)備，BBO，DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設(shè)備，超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術(shù)部門和質(zhì)量控制設(shè)備。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測試和認(rèn)證。
該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學(xué)和晶體組件。但是，我們還提供了廣泛的標(biāo)準(zhǔn)目錄產(chǎn)品，可以快速實(shí)現(xiàn)現(xiàn)成的交付。
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